中國半導體產業又向前邁進一步！由於美西方國家嚴格限制深紫外光（DUV）及極紫外光（EUV）曝光機出口中國，中國惟有自主研發，尋找替代方案。近日，杭州璞璘科技向深圳力策科技，正式交付型號為PL-AS的半導體級真空氣壓式納米壓印光刻機。據悉，該設備是首款光晶片專用納米壓印光刻設備，全程繞開ASML深紫外光刻（DUV）路線，實現8英寸光晶片晶圓規模化量產。

報道指，璞璘科技本次交付的自主研發的真空氣壓式納米壓印方案，完全繞開傳統ASML的DUV光刻路線，並將光晶片製造成本，壓縮至DUV方案的10%。目前，荷蘭半導體設備巨頭ASML，在DUV微影設備的全球市佔率高達9成以上。

目前，行業對於納米壓印技術的實際價值，仍存在廣泛爭議。研究機構SemiAnalysis表示，儘管納米壓印設備本身成本更低，但其實際成本優勢取決於產能、模板生產、缺陷率和工藝集成水平，短期內難以替代DUV和EUV在先進邏輯晶片製造中的主導地位。

無論如何，納米壓印光刻機問世，是以實證方式向世界宣告：中國是完全有能力，打破美西方光刻設備的封鎖，實現高性能光晶片的穩定、大批量、低成本製造。這場長跑，我們沒有停下腳步，只是換了一條更具韌性的賽道繼續競速。這條新賽道的意義，不在一鳴驚人，而在步步為營，逐步在半導體領域不再受制於人，實現自主。

原圖：璞璘科技圖片